之前我爆料过很多关于华为要自研光刻机的事，其实这个事想想也不需要怀疑，经过华为一系列的操作，几乎就是实锤了这种消息。
那么今天就简单的说下华为的光刻机研发思维逻辑吧，都知道荷兰ASML公司所制造的光刻机，其工艺复杂，制作难度很高，也正是因为这方面的原因，荷兰ASML公司的副业人曾经自信满满的表示，即便公开图纸也没事能仿造出来，事实真的如此么？
其实他的话不全对，但是也不能说不对，因为工艺确实复杂，需要很多元器件构成，每个元器件缺一不可，但是仿造不出来的概率确实有点自信过头了。与荷兰ASML公司制造的光刻机相比，从华为的专利技术显示，就可以初步看见些许端倪。
相比于荷兰人的机械双工件台（激光阵列+电子式）开关，华为的专利就相对简单一些，不需要特别复杂的工艺，也能达到同样的效果，而且成本降低的同时，制作效率也可以大大提升，也正是因为这个原因，所以我之前就说过，华为另辟蹊径设计一个完全不同于荷兰人的光刻机技术，却又能达到相同的效果，这也让华为突破光刻机技术变得并非不可能。
那么这种全新光刻机大概多久才能造出来呢？根据了解的信息，应该是2到3年会有初步成果，因为在理论基础之上，这种光刻机的研发突破几乎没有任何问题。
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